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本文标题:"晶粒内氧化物化学计量实验型多工图像显微镜"

新闻来源:未知 发布时间:2016-1-4 1:50:41 本站主页地址:http://www.jiance17.com

晶粒内氧化物化学计量实验型多工图像显微镜


    这种被封闭于体内的高压气体,也并不是完全不能通过面消失的,
这主要要看气体的类型,下面分三种气氛的情况来谈。

    第一种情况,如果封闭于体内的是氮、氩一类原子半径较大的气体,
要想通过挤进正常晶格的填隙位置来扩散,则几乎是不可能的,因为扩
散系统太小,即填隙激活能太大,1800℃的40大气压之下,仍很能完成
这种激发,气体将达到某一平衡状态而保留下来,不可能获得致密陶瓷。
    第二种情况,如果被封闭的是原子半径极小的氩或氨等气体,情况
将大不相同,在1800℃下和40个大气压的压强差的推动之下,它将轻而
易举地通过填隙扩散而通向自由表面,所以,氢、氩都是有得致密烧结
的气氛,不过应该注意,氢氛有还原作用,高温下可能使氧化物隐没失
氧而产生化学计量比偏离,氛则没有这种顾虑。

    第三种情况,如果封闭于体内气孔中的是氧,则这是一个非常有趣
的问题,尽管氧原子的半径和氮并不差多少,但氧氛烧结却可以获得致
密陶瓷,其奥妙之处就在于我们烧结的是氧化物隐没,在1800℃有高温
作用之下,氧化物品体的正常晶格之中,总会出现一定数量的正离子缺
位的氧离子缺位,即出现分子型肖特基缺陷,在闭气附近高氧压的作用
之下,过剩的氧将进入晶格结构,与晶粒内之氧缺位进行平衡,这时在
该处将产生氧缺位浓度的大大下降,和氧化物化学计量比的偏离,这时
相应地形成正离子缺位扩向气孔,后者迫使正缺位向外扩散,其结果半
有利于高氧化的消失,即有利于气孔的进一步收缩,最终将可以得到致
密度极高的陶瓷,上面的叙述,还没有交待氧原子进入格点成为氧离子
时的电子交换问题,留下的电子将随着正离子的扩散向气泡处集中。

    上面的分析,主要是针对陷入体内的气孔来谈的,这结任何要想获
得近乎理论密度陶瓷的情况说来,都是非常重要的,因为,即使采取了
阻滞措施,也并不保证所的气孔都在粒界之中,即便是在粒界中之气孔,
当采取有利于气氛措施之后,也将排除得更加迅速,干净,彻底。

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