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本文标题："集成电路各层掩膜工艺断口截面分析显微镜"
新闻来源：未知 发布时间：2018-9-30 0:42:04 本站主页地址：http://www.jiance17.com
集成电路各层掩膜工艺断口截面分析显微镜
阵列设计技术
通用性和半通用性的集成电路需要有非常快的设计周转时间，因而产生
了门阵列和晶体管阵列设计的思想。门阵列和晶体管阵列的特征是使圆片
通过所有各层掩膜工艺，直至金属互连层。晶体管阵是由互联晶体管组成
的一些基本门。将这些门相互连接起来就完成了整个电路。而在门阵列中
，作为构筑方块的门已经形成了，要做的工作仅是简单地把这些门连接起
来。
阵列设计技术有两个基本步骤。第一步i是对所需电路进行逻辑模拟，
第二步，用互联作图设备或自动作图系统来完成电路的分配和布局工作。
过去，门阵列和晶体管阵列设计技术损失了大量的硅面积。但现在已
经开发了具有更有效更复杂算法的软件，可以大大减小这个损失。目前的C
AD系统已包含有产生高密度阵列婚软件。阵列设计方法确实提供了快速周
转时间，但由于形成阵列需要一些基本的布局工作，所以仍旧要牺牲一些
电潞面积。这种方法所需的人工干涉应保持在最低限度，主要是用于纠正
还没有很好联结的少部分电路。
硅器件编泽程序
基本思想就是从设计开始到结束，都对集成电路的宏观功能和微观功
能进行自动定义。如果这可以做封，设计所需时间就会大大缩短，由硅器
件编译程序设计的电路具有很高的质量。
与那种需要详细解释细节的低级语言相比较，硅器件编译程序相当于
高级、抽象的计算机语言。
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