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本文标题："光学研磨抛光技术-在微光学元件中有许多的改进方法"

光学研磨抛光技术-在微光学元件中有许多的改进方法

在微光学元件中有许多的改进方法，而我们是以光学研磨抛光

技术作为我们改进微光学元件的表面粗糙度的问题，并可增加其反

射效率或透射效率，现在研磨抛光技术比以往进步很多，但主要是

顺应大量加工和省力化。

在研磨加工机械方面，我们使用压电陶瓷马达作为我们的主要

驱动器，其可作为一维的精密推动，移动范围可从微米级（μm）至

厘米级（mm），而移动速度可控制范围从（10μm/sec）至（10mm/sec）。

另外，我们可在其上加上一向下之正向压力从（0.01NT）至（10NT），

以进行我们的微光学元件研磨抛光。

而我们先以两片直角柱状镜作研磨工件，两片互相相对，沟槽

对沟槽，对其两沟槽作研磨，但是因其皆为微小（100μm），故难以

对准，所以我们利用我们实验室已有之 moire 叠纹校准法对其加以

修正，当两沟槽不为平行就会有 moire 叠纹的出现，故当两沟槽为

平行时，就不会有 moire 叠纹的出现。见图（5-7），此图即为两沟

槽为有倾斜之状，其 moire 叠纹非常之明显，所以我们就必须加以

修正，当其图没有 moire 叠纹的出现就是我们所要之两沟槽对准平

行，

而此实验我们还在进行当中，并且是我们将来首要进行之工作，

以此改进方法相信在未来会大大的应用，在以 LIGA或是以LIGA-like

制作微光学元件，皆可解决此方法制作上之缺点，满足将来更高品

质之光学微系统需求。