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冶 金 学
在低温下形成势垒接触的冶金学是比较简单的,因为金属与
半导体不发生反应。但是,当在高温下要形成欧姆接触或稳定的
势垒结构而进行烧结时,就会发生强烈的反应。低阻欧姆接触的
要求是:
①接触金属应当与半导体均匀地浸润并起反应。
②应当形成一个均匀的高掺杂区,用它产生具有欧姆行为的
低接触电阻。
④这个接触体系应当与所用的其它金属相熔合,并能在以后
的整个加工程序中保持牢固不坏。
通常使用的接触金属所包含的掺杂剂,n型的有锡,铟或锗;
P型的有锌或锰,并与金,银或镍组成合金。后者提供一个适于
焊接引线的表面,并且在合金过程中使低熔点的掺杂剂直接与半
导体接触。
材料的电学鉴定是一个复杂而广泛的研究课题。它包括体材
料的分析,监控薄的外延层(与器件层同时生长的),在整个片
子表面上平均值的测量,特定器件中的体积测定,对完整器件的
测量以及为了确定材料的某种特性而进行的试验等等。
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